当前位置:百科知识 > 集成电路制造工艺员(三级)试题

问题描述:

[多选] 在半导体工艺中,淀积的薄膜层应满足的参数包含有()。
A.均匀性 B.表面平整度 C.自由应力 D.纯净度 E.电容
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