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问题描述:

[判断] 利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中,掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉。
参考答案:查看无
答案解析:无
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力矩分配法第二步为约束状态,主要工作是计算固端弯矩和约束力矩。
无侧移结构,内部含有三个刚结点情况,放松三个结点时分组情况为()。
经典的多结点力矩分配法,随着计算循环次数增加,结点上的约束力矩会逐渐趋向零。
单结点力矩分配法,若结点上仅仅作用一力偶,该力偶可直接分配得到近端和远端的弯矩,该力偶没有正负号的规定。
分配系数用于计算近端弯矩,传递系数用于计算远端弯矩。
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