问题描述：
[判断]
利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中，掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉。
参考答案：查看无
答案解析：无
☆收藏
答案解析：无
☆收藏
- 我要回答: 网友(216.73.216.96)
- 热门题目: 1.MOSFET的栅极氧化层采用 2.欧姆接触也称为整流接触。 3.通常，超晶格结构是基于异质结