当前位置:百科知识 > 集成电路制造工艺员(三级)试题

问题描述:

[多选] 下列有关ARC工艺的说法正确的是()。
A.RC可以是硅的氮化物 B.可用干法刻蚀除去 C.ARC膜可以通过PVD或者CVD的方法形成 D.ARC在刻蚀中也可做为掩蔽层 E.ARC膜也可以通过CVD的方法形成
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