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半导体芯片制造中级工试题
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[单选]
光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺()
[单选]
二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行()扩散。
[单选]
Ⅰ号液是()过氧化氢清洗液.
[单选]
在温度相同的情况下,制备相同厚度的氧化层,分别用干氧,湿氧和水汽氧化,哪个需要的时间最长?
[单选]
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布?
[单选]
从离子源引出的是:()
[单选]
离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的()。
[单选]
离子注入层的深度主要取决于离子注入的()。
[多选]
硅外延片的应用包括()。
[多选]
硅外延生长工艺包括()。
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