问题描述：
[多选]
解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。
A．加强工艺操作
B．加强人体和环境卫生
C．使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备
D．采用HCl氧化工艺
E．硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹
参考答案：查看无
答案解析：无
☆收藏
答案解析：无
☆收藏
上一篇：二氧化硅膜的质量要求有（）。
下一篇：二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。
- 我要回答: 网友(18.221.42.164)
- 热门题目: 1.无铅焊接的特点及技术难点是什 2.免清洗焊接技术有哪两种？请详 3.请总结再流焊的工艺特点与要求