问题描述:
[多选]
超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有()。
A.高分辨率
B.高灵敏度
C.精密的套刻对准
D.大尺寸
E.低缺陷
参考答案:查看无
答案解析:无
☆收藏
答案解析:无
☆收藏
- 我要回答: 网友(18.117.75.10)
- 热门题目: 1.在将清洗完的硅片放进扩散炉扩 2.通常热扩散分为两个大步骤,其 3.He,OH,Na等元素在90