当前位置:百科知识 > 集成电路制造工艺员(三级)试题

问题描述:

[单选] 光刻的主要工艺流程按照操作顺序是()。
A.涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶 B.涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶 C.涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶 D.前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
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