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[问答]
例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
[问答]
解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低?
[问答]
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?
[问答]
给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么?
[问答]
解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?
[问答]
例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。
[问答]
描述曝光波长和图像分辨率之间的关系。
[问答]
例举并描出旋转涂胶的4个基本步骤。
[问答]
在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?
[问答]
例出光刻的8个步骤,并对每一步做出简要解释。
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