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集成电路制造工艺员(三级)试题
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[单选]
钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是()杂质。
[单选]
硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是()。
[单选]
二氧化硅生长过程中,当分凝系数小于1时,会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度()。
[单选]
表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度,习惯上常用()。
[多选]
()的方法有利于减少热预算。
[单选]
当热氧化的最初阶段,()为限制反应速率的主要原因。
[单选]
当二氧化硅膜很薄时,膜厚与时间()。
[多选]
干氧氧化法具备以下一系列的优点()。
[单选]
干氧氧化法有一些优点,但同时它的缺点有()。
[单选]
干氧氧化中,氧化炉内的气体压力应()一个大气压。
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