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集成电路制造工艺员(三级)试题
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[单选]
硅烷的分子式是()。
[多选]
去正胶常用的溶剂有()
[多选]
光刻胶的光学稳定通过()来完成的。
[多选]
晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。
[多选]
有关光刻胶的显影下列说法错误的是()。
[单选]
下列哪些因素不会影响到显影效果的是()。
[多选]
下列有关ARC工艺的说法正确的是()。
[单选]
下列关于曝光后烘烤的说法正确的是()。
[多选]
下列有关曝光系统的说法正确的是()。
[多选]
按曝光的光源分类,曝光可以分为()。
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